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2022年的春天，注定是一个不平凡的春天。在上海市常态化的疫情防控要求下，学院概况AEMD平台的校内外微纳加工科研实验服务也按下了暂停键。在疫情特殊形势下，AEMD平台向每一位平台教职员工提出了“学习有进步，工作有进展”的自觉学习、主动工作的要求，同时为了促进平台师生用户在封闭在家在校的条件下“持续学习，不断进步”，不断学习掌握先进的微纳加工与测试技术及其应用，AEMD平台特别策划了“积‘微’成著，‘疫’路同行”AEMD平台微纳技术系列云端讲座。本系列讲座特别邀请来自微纳加工与测试领域的资深专家，为大家提供先进图形化、刻蚀、薄膜生长与沉积、离子注入、表征测试等技术原理与应用实例讲座。5月20日晚，随着第一讲《ICP、RIE刻蚀原理与应用实例（介质、金属、硅刻蚀等）》讲座的举行，本系列讲座正式拉开序幕。
作为此次系列讲座的第一讲，AEMD平台特邀SENTECH仪器（德国）有限公司中国区总经理周建民为此次讲座的主讲人。讲座以ICP、RIE刻蚀原理与应用实例为主题，围绕等离子体干法刻蚀的基本原理，基于反应离子刻蚀（RIE）和感应耦合等离子刻蚀（ICP）技术要点及设备结构，重点介绍多种介质、金属及硅等薄膜与半导体材料的干法刻蚀的方法及应用实例。
主讲人聚焦等离子体干法刻蚀的基本原理，详细地介绍了反应离子刻蚀（RIE）和感应耦合等离子刻蚀（ICP）的技术要点，并清晰地解释了刻蚀气体、刻蚀方法、刻蚀参数、掩膜材料等的选择。其极具操作性和丰富的宝贵经验分享令参会听众对ICP、RIE刻蚀原理与应用有了更深入的学习和更有价值的参考。通过大量介质、金属及硅等薄膜与半导体材料的干法刻蚀的应用实例，直观地展示了干法刻蚀在微纳加工中的无限可能性。
本次讲座吸引了250余人参会。讲座结束后，主讲人与AEMD平台用户就干法刻蚀中的各种问题进行了深入交流互动，热烈讨论了刻蚀缺陷、大深宽比刻蚀的方法、终点探测方法、刻蚀形貌的侧壁陡直度、均匀性等AEMD平台用户关心的话题，为用户解答了工作中遇到的实际问题。平台用户对相关技术问题畅所欲言，接二连三地提出相关疑问，主讲嘉宾热情仔细地一一回应，交流互动环节掀起一阵又一阵头脑风暴。
此次讲座使校内师生对ICP、RIE刻蚀原理和应用进展有了更全面和深入的了解，参会人员反响热烈。据悉，AEMD平台近期将于每周二、每周五晚7:00继续邀请来自微纳加工与测试领域的资深专家，定期为大家举办先进图形化、刻蚀、薄膜生长与沉积、离子注入、表征测试等技术原理与应用实例系列云端讲座，让校内师生就相关技术与成果进行深入的交流和学习，并充分了解相关原理、充分利用大型仪器设备支撑，以期产出更多高水平科研成果。
功崇惟志，业广惟勤。心之所向，未来可期。在上海疫情防控稳中向好的关键时期，AEMD平台通过探索开展微纳技术系列云端讲座，充分激发平台用户师生的学习热情，共同打磨提升科研技术能力，团结奋斗、智慧共享、积“微”成著，“疫”路同行。曙光在即，我们守护不息、学习不断，所有期待终将迎来美好！
附：近期系列云端讲座安排预告
工艺类别 | 讲座主题 | 讲座时间 |
刻蚀 | （1）ICP、RIE刻蚀原理与应用实例（介质、金属、硅刻蚀等） | 5月20日(周五) 19:00-20:30 |
（2）化合物半导体（III-V， II-VI、SiC、GaN）干法刻蚀技术与实例 | 5月24日(周二) 19:00-20:30 | |
（3）低损伤刻蚀与新型干法刻蚀技术及应用 | 5月27日(周五) 19:00-20:30 | |
（4）深硅反应离子刻蚀（DRIE） 原理与应用实例 | 5月31日(周二) 19:00-20:30 | |
（5）XeFe2/VHF干法硅/氧化硅刻蚀技术与应用实例 | 6月2日(周四) 19:00-20:30 | |
光刻 | （1）激光直写光刻技术与应用 | 待定 |
（2）热探针图形化技术与应用 | 待定 | |
（3）双光子3D打印技术与应用 | 待定 | |
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表征 | （1）SEM与SEM base Nanoprober在半导体器件中的应用及制样方法 | 待定 |
（2）扫描电镜成像技术及最新技术进展分享 | 待定 | |
（3）FIB在材料以及器件等领域的应用 | 待定 | |
（4）显微镜在新一代半导体行业解决方案 | …… | |
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待定 |
来源丨先进电子材料与器件（AEMD）平台
文稿丨田苗、韩晓佳
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