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全国半导体设备和材料标准化技术委员会第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2018年10月9—12日在上海市召开，会议由上海交通大学先进电子材料与器件平台承办。来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外88家单位微光刻领域的专家及技术人员约160余人参加了本次会议。
11日上午，会议由中科院物理所研究员、全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主任冯稷研究员主持，上海交通大学电子信息与电气工程学院党委书记苏跃增教授代表承办方致欢迎词，欢迎来自国内外专家参加本次微光刻交流会。先进电子材料与器件平台（即AEMD平台）常务副主任程秀兰研究员感谢委员会对于平台的信任和重托。会议主办方微光刻分技术委员会秘书长陈宝钦研究员转达了全国半导体设备和材料标准化技术委员会领导及总会秘书处对本会的祝贺,并感谢一年来微光刻分技术委员会委员和代表们的努力和奉献，并宣布第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年正式开始。
本次会议，来自国内外的学者聚集到上海交通大学，对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流与探讨。会议邀请了来自复旦大学陈宜方教授和熊诗圣教授、AEMD平台权雪玲博士和徐剑先生、长春光机所张志宇研究员、华中科技大学甘棕松教授、中科院上海应用物理所吴衍青研究员、上海凸版李勇先生、浙江大学赵鼎博士等分别对大面积先进纳米制造、用于亚10nm嵌段共聚物导向自组装技术、反向光子晶体电子束光刻技术、基于微光刻技术的平面衍射望远镜、超分辨SPIN光刻技术、XIL技术、光栅扫描型EBL在CAR胶上的技术延伸应用、电子束冰刻技术、大面积微纳3D打印/灰度光刻技术等前沿光刻技术进行了展示与讨论。同时会议还邀请了Stella、ZEISS、Raith、GenIsys、RAITH、Advantest、特许、LTJ、优尼康、合肥芯碁、苏州美图、中科院成都光机所、苏大维格等国内外微光刻相关领域设备与技术服务公司介绍了最新产品与技术应用。另外，微光刻分技术委员会还就包含2018年度《微电子学微光刻技术术语》在内的五项国家标准报批稿编制说明进行了确认、对2018年《硬表面光掩模版基片的规范》等五项国家标准的修定申请书及修订草案进行了讨论及确认、对2019年拟12项国家标准修定及制定申请进行了讨论。
会后，由2019年承办单位中国科学院长春光学精密机械与物理研究所张志宇老师从此次承办单位AEMD平台程秀兰常务副主任手中接过交接牌，并表示，长春光机所会尽全力办好第九届会议，欢迎各界同仁一同前往，共创微纳科技！
此次会议的召开为国内微光刻技术、光掩模制造技术、微纳米制造技术与半导体掩模制造设备等领域的生产企业、科研院所、高等院校及用户单位提供一个相互学习、交流的一个平台，研讨微光刻领域发展大计，展示业内优秀成果和最新进展，并对微光刻国家标准进行了深入探讨，促进了微纳制造科研快速发展、相关产业的健康发展作出贡献。
作者：程秀兰 沈贇靓
摄影：梁国恩 沈贇靓
供稿单位：AEMD平台
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