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5月6日-7日，由学院概况主办的，为期两日的上海交通大学“未来信息技术”第三届国际青年学者论坛隆重举行，来自世界各地的信息技术领域优秀青年学者汇聚一堂，围绕“未来信息技术”为主题进行深入交流与思维碰撞，畅谈当前形势下信息技术学科发展面临的热点、机遇与挑战。
6日下午，微纳电子学系承办的分论坛 “Micro/Nano Electronics and MEMS/NEMS”在微电子楼举行。系党总支书记刘景全教授主持论坛；系主任毛志刚教授致欢迎辞，并向参会青年学者介绍了微纳电子学系目前的发展情况。
来自美国、新加坡、澳大利亚等国的世界一流大学的8位青年学者，及系教师代表共同针对集成电路设计、MEMS及纳米电子材料与器件等研究领域中的数字电路设计、射频及模拟集成电路设计、低碳纳米材料与器件等研究领域进行了深入探讨和交流。
7日上午，青年学者们分别参观了闵行交大校园、交大青年教师公寓及毗邻交大闵行校区的全球创新创业聚集区——零号湾。7日下午，青年学者再次汇聚微纳电子学系，与系领导、专任教师代表等就关心的问题展开进一步讨论交流。
本次论坛在第一届及第二届青年学者论坛成功举办的基础上，为全球各地杰出的青年学者提供了面对面深层次交流的平台，对今后学校相关领域国际学术交流活动以及尖端科研进展起到积极推动作用。微纳电子学系教师代表连勇、胡志宇、侯中宇、施国勇、杨志、王国兴、李金金、杨卓青、王琴、孙亚男及刘婷等积极参与论坛及座谈，与参会学者互动交流，对加强微纳电子学系与国际青年学者的交流与联系起到了重要推动作用。
供稿：罗炀燔
供图：电院党政综合办公室
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